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傳真:0317-8192716
網(wǎng)址:http://m.50788.com.cn/
郵箱:2388941785@qq.com
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光氧催化設(shè)備失效原因分析
添加時間:2020-12-26 | 文章錄入:本站 | 文章來源:原創(chuàng)
光氧催化設(shè)備失效原因分析
光氧催化設(shè)備常見的幾種漏油介紹
1、光氧催化設(shè)備設(shè)計不合理。包括產(chǎn)品設(shè)計人員在設(shè)計時沒考慮到密封,或不熟悉密封技術(shù);密封結(jié)構(gòu)形式設(shè)計不合理,與工作狀態(tài)、工況條件、溫度介質(zhì)等特性不相適 應(yīng),不注意設(shè)備的防腐、振動、均壓和疏導(dǎo)措施;未考慮通氣、回油、導(dǎo)液和拆裝 等因素。
2、廢氣處理裝置制造與加工精度不良。包括在制造過程中平面加工不平直,配合不好,同心度差,表面粗糙度過高, 鑄造時造成氣孔和砂眼等缺陷,以及其他制造、加工質(zhì) 量不良因素都將會造成泄漏。
3、光氧催化設(shè)備密封材料選擇不當(dāng)。密封材料一般要具有致密性、回彈性、壓縮性、柔軟 性、性,耐臭氧、耐輻射、蝕、抗介質(zhì)侵蝕、耐高低溫、機(jī)械加工性等基 本性能。當(dāng)然沒有一種材料同時具備上述這些性能,因此可根據(jù)不同工況條件,選 擇具備主要性能的材料以適合密封條件。可是往往由于選擇材料不合理,適應(yīng)不了 被密封的工況條件而造成泄漏。
4、光氧催化設(shè)備管理不嚴(yán)、維護(hù)不周。這是光氧催化設(shè)備泄漏的直接原因,如密封元件達(dá)到了使用壽命,但未及時換,緊固件的松動,壓蓋沒及時壓緊和調(diào)節(jié)等。
5、光氧催化設(shè)備安裝方法不正確。泄漏的很多原因是安裝位置不正,偏心過大,密封件側(cè)裂,緊固螺釘預(yù)緊力不一,裝配工藝不正確等引起。
6、光氧催化設(shè)備工況條件惡劣。包括被密封介質(zhì)有腐蝕性,振動劇烈,髙溫高壓,灰塵和 外界介質(zhì)侵蝕等。
以上幾點(diǎn)都是造成光氧催化設(shè)備泄漏的主要原因。而且各個因素都相互交叉、相互影響。因 此要逐一分析,找出泄漏的主要原因,采取治漏措施。
要做到設(shè)備無泄漏,維護(hù)修理人員要加強(qiáng)巡回檢查,發(fā)現(xiàn)光氧催化設(shè)備的泄漏點(diǎn), 應(yīng)深人調(diào)查,仔細(xì)觀察,認(rèn)真、分析,把原因找準(zhǔn)。凡能及時解決的就立即采 取措施排除,一時無法排除、工作量又較大的,可填入故障檢査記錄表內(nèi),提請安 排維修計劃。負(fù)責(zé)設(shè)備維修的工程技術(shù)人員,對所主管范圍內(nèi)設(shè)備的泄漏程度及其 原因,做到心中有數(shù),并進(jìn)行歸納分類,屬共性的問題,要解決措施。對疑 難、關(guān)鍵問題,又直接影響設(shè)備使用。
光氧催化設(shè)備常見的幾種漏油介紹
1、光氧催化設(shè)備設(shè)計不合理。包括產(chǎn)品設(shè)計人員在設(shè)計時沒考慮到密封,或不熟悉密封技術(shù);密封結(jié)構(gòu)形式設(shè)計不合理,與工作狀態(tài)、工況條件、溫度介質(zhì)等特性不相適 應(yīng),不注意設(shè)備的防腐、振動、均壓和疏導(dǎo)措施;未考慮通氣、回油、導(dǎo)液和拆裝 等因素。
2、廢氣處理裝置制造與加工精度不良。包括在制造過程中平面加工不平直,配合不好,同心度差,表面粗糙度過高, 鑄造時造成氣孔和砂眼等缺陷,以及其他制造、加工質(zhì) 量不良因素都將會造成泄漏。
3、光氧催化設(shè)備密封材料選擇不當(dāng)。密封材料一般要具有致密性、回彈性、壓縮性、柔軟 性、性,耐臭氧、耐輻射、蝕、抗介質(zhì)侵蝕、耐高低溫、機(jī)械加工性等基 本性能。當(dāng)然沒有一種材料同時具備上述這些性能,因此可根據(jù)不同工況條件,選 擇具備主要性能的材料以適合密封條件。可是往往由于選擇材料不合理,適應(yīng)不了 被密封的工況條件而造成泄漏。
4、光氧催化設(shè)備管理不嚴(yán)、維護(hù)不周。這是光氧催化設(shè)備泄漏的直接原因,如密封元件達(dá)到了使用壽命,但未及時換,緊固件的松動,壓蓋沒及時壓緊和調(diào)節(jié)等。
5、光氧催化設(shè)備安裝方法不正確。泄漏的很多原因是安裝位置不正,偏心過大,密封件側(cè)裂,緊固螺釘預(yù)緊力不一,裝配工藝不正確等引起。
6、光氧催化設(shè)備工況條件惡劣。包括被密封介質(zhì)有腐蝕性,振動劇烈,髙溫高壓,灰塵和 外界介質(zhì)侵蝕等。
以上幾點(diǎn)都是造成光氧催化設(shè)備泄漏的主要原因。而且各個因素都相互交叉、相互影響。因 此要逐一分析,找出泄漏的主要原因,采取治漏措施。
要做到設(shè)備無泄漏,維護(hù)修理人員要加強(qiáng)巡回檢查,發(fā)現(xiàn)光氧催化設(shè)備的泄漏點(diǎn), 應(yīng)深人調(diào)查,仔細(xì)觀察,認(rèn)真、分析,把原因找準(zhǔn)。凡能及時解決的就立即采 取措施排除,一時無法排除、工作量又較大的,可填入故障檢査記錄表內(nèi),提請安 排維修計劃。負(fù)責(zé)設(shè)備維修的工程技術(shù)人員,對所主管范圍內(nèi)設(shè)備的泄漏程度及其 原因,做到心中有數(shù),并進(jìn)行歸納分類,屬共性的問題,要解決措施。對疑 難、關(guān)鍵問題,又直接影響設(shè)備使用。
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